DHRH-2黑體紅外輻射試驗(yàn)儀 　本實(shí)驗(yàn)裝置主要由輻射黑體、導(dǎo)軌、紅外傳感器、溫度控制器等部分組成，主 要用來研究黑體的紅外輻射特性。 ◆ 研究物體表面特性對輻射量的影響； ◆ 研究黑體輻射量和距離

DHRH-2黑體紅外輻射試驗(yàn)儀 　本實(shí)驗(yàn)裝置主要由輻射黑體、導(dǎo)軌、紅外傳感器、溫度控制器等部分組成，主 要用來研究黑體的紅外輻射特性。 ◆ 研究物體表面特性對輻射量的影響； ◆ 研究黑體輻射量和距離

DHRH-1熱輻射與紅外掃描成像裝置 　黑體輻射實(shí)驗(yàn)是量子論得以建立的關(guān)鍵性實(shí)驗(yàn)之一。物體在向外輻射的同時(shí)， 還將吸收從其他物體輻射的能量，且物體輻射或吸收的能量與它的溫度、表面積 、黑度等因素有關(guān)。

DH6520光敏電阻特性實(shí)驗(yàn)儀 實(shí)驗(yàn)儀由光敏電阻、測試架、直流電源、九孔板、數(shù)字萬用表、電阻元件盒以及 轉(zhuǎn)接盒等組成。用于研究光敏電阻傳感器的基本特性和基本原理。 ◆可以在暗光的條件下連續(xù)改變光照距離

DH-CGOP1光電傳感器實(shí)驗(yàn)儀 　實(shí)驗(yàn)儀以九孔板插件為平臺，配以插件式實(shí)驗(yàn)元件和傳感元件，充分體現(xiàn)了設(shè) 計(jì)性的實(shí)驗(yàn)思想；實(shí)驗(yàn)方法簡單、可操作性強(qiáng)，有效提高學(xué)生的動(dòng)手能力。 ◆可完成光敏電阻、光敏二極

DH-GMR-2巨磁阻效應(yīng)實(shí)驗(yàn)儀 本實(shí)驗(yàn)儀器采用新型巨磁阻傳感器，可在微弱磁場中進(jìn)行巨磁阻效應(yīng)實(shí)驗(yàn)，以了 解巨磁阻效應(yīng)的原理和應(yīng)用，掌握巨磁阻傳感器的原理和應(yīng)用。 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容： ◆ 了解巨磁阻效應(yīng)原理

DHMS-1 微波光學(xué)綜合實(shí)驗(yàn)儀（綜合性實(shí)驗(yàn)） 本實(shí)驗(yàn)儀采用類似光學(xué)分光計(jì)的設(shè)計(jì)思想。成套儀器由三厘米微波信號源、固態(tài) 微波振蕩器、衰減器、隔離器、發(fā)射喇叭、接收喇叭、檢波器、檢波信號數(shù)顯器 、可旋轉(zhuǎn)

DH2002A核磁共振實(shí)驗(yàn) 與DH2002相比，探測線圈與邊限振蕩器實(shí)現(xiàn)了分體式設(shè)計(jì)，并增加了實(shí)驗(yàn)內(nèi)容。 ◆ 樣品自上而下自由取放，不用換探測線圈，非常方便 于自有樣品的測量實(shí) 驗(yàn)； ◆ 可做有機(jī)

DH-EPR 電子順磁共振實(shí)驗(yàn)儀 1925年烏侖貝克和哥德斯密，為了說明堿金屬原子能級的雙層結(jié)構(gòu)，首先提出了 電子自旋的假說：電子作自旋轉(zhuǎn)動(dòng)，由于其帶負(fù)電，故而電子具有的自旋磁矩的 方向與其自旋角動(dòng)量

DHEO-1晶體電光效應(yīng)實(shí)驗(yàn)儀 電光調(diào)制實(shí)驗(yàn)儀作為高等院校新一代的物理實(shí)驗(yàn)儀器，在基礎(chǔ)物理實(shí)驗(yàn)和相關(guān)專 業(yè)的實(shí)驗(yàn)中用以研究電場和光場相互作用的物理過程，也適用于光通訊與光信息 處理的實(shí)驗(yàn)研究。電光調(diào)制

ZH6371個(gè)體采樣器

DHSL-1 聲光效應(yīng)與激光超聲光柵實(shí)驗(yàn)儀 　超聲波在液體介質(zhì)中傳播時(shí)，將引起液體介質(zhì)的彈性應(yīng)變，從而引起介質(zhì)折射 率的變化。聲壓的周期性變化決定了折射率的變化具有時(shí)間和空間上的周期性。 當(dāng)光束通過有

DHRH-2黑體紅外輻射試驗(yàn)儀 本實(shí)驗(yàn)裝置主要由輻射黑體、導(dǎo)軌、紅外傳感器、溫度控制器等部分組成，主要 用來研究黑體的紅外輻射特性。 ◆ 研究物體表面特性對輻射量的影響； ◆ 研究黑體輻射量和距離以

DH2004型 多功能微波等離子體實(shí)驗(yàn)裝置 由微波源、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、微波傳輸及微波諧振腔組成；由微 波源產(chǎn)生頻率為2.45GHz的微波，沿矩形波導(dǎo)管傳輸，在水冷諧振腔反應(yīng)室內(nèi)激勵(lì) 氣體

DHPS系列直流濺射等離子體實(shí)驗(yàn)裝置 裝置采用同軸二極濺射結(jié)構(gòu)，靶臺和靶距離可調(diào)節(jié)，濺射基片可進(jìn)行控溫加熱； 濺射氣壓、濺射氣源流量可調(diào)節(jié)，可研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響 ；反應(yīng)腔體采用石英